La spectroscopie photoélectronique X (XPS)
La spectroscopie photoélectronique X consiste en l’analyse de l’énergie cinétique des électrons issus de l’ionisation des éléments d’un solide irradié par un faisceau monochromatique de rayons X.
Cette technique donne un accès direct à la composition chimique des couches superficielles d’un matériau, ainsi qu’à la structure électronique des éléments présents. Elle renseigne principalement sur les proportions relatives des éléments présents dans les premières couches atomiques et sur leur état d’oxydation.
Il existe deux XPS hébergés au sein des locaux FCMat :
Le premier spectromètre, appartenant au LRS est couplé à d’autres techniques de surface comme la diffraction d’électrons lents (LEED), la spectroscopie Auger (AES) et la spectroscopie IR de surface en réflexion spéculaire (PM-IRRAS) et est utilisé pour des expériences de science des surfaces. Cet appareil est également largement utilisé pour la caractérisation des couches auto assemblées, des interfaces biologiques et des matériaux catalytiques.
Le second spectromètre, appartenant à la fédération, est dédié à des analyses de « routine », plus rapides, pour la caractérisation de tout type de matériaux solides.
Spectromètre Omicron Argus X-ray :
- Analyseur hémisphérique, détection à 128 microcanaux
- Source AlKα (hν = 1486.6 eV) monochromatée
- Twin anode MgKα (hν = 1254.6 eV)
- Flood gun pour la compensation de charge
- Ion Gun (Ar+) pour le profilage en profondeur